国产DUV光刻机量产交付
推荐指数 66.0 NO. 022 · 2026.07.29
发布2026/07/28
为什么值得看
上海爱晟纳电子科技集团启动浸没式DUV光刻机小规模量产，首批约5台年内交付中芯国际等头部晶圆厂，2027年计划扩至20台。这意味着中国半导体设备自主化从实验室走向产线，7纳米级芯片制造的设备瓶颈出现实质性松动。
编辑判断
注册资本70亿、2023年8月才成立的纯国资企业能在两年内拿出量产级浸没式DUV，说明上海微电子（SMEE）的技术积累可能已通过某种方式转移或共享。爱晟纳的股东结构里上海电气和上海国际信托都是老派国资，这种安排更像是为了规避现有制裁而做的壳公司设计。
对AI芯片创业者来说，这意味着7纳米级流片的设备可得性在未来2-3年可能改善，但别急着乐观——ASML的DUV年产量是数十台量级，国产设备在套刻精度、产能（wph）和稳定性上差距仍大，首批5台大概率是工艺验证性质。真正该关注的是中芯国际用这批设备跑出的良率数据，那才是判断国产替代能否闭环的关键信号。